“中国芯”完成科技“破冰”

近日国产芯片有好消息传出，在光刻机领域中，上海微电子表示，已经顺利完成28nm光刻机的研发工作，预计将于今年年底或明年年初实现量产，虽然与阿斯麦的光刻机有一定的差距，但是已经能够实现7纳米工艺的量产，从今天起duv光刻机也有了国产替代化产品。

而在国产芯片方面，根据数据显示来看，国内企业5月份芯片产能已经达到了299亿颗，同比上涨了37.6%，而且1~5月的国产芯片总产能已经达到了1399亿颗，同比增长了40%。

值得一提的是大部分芯片都是28纳米等等成熟制程的芯片。但要知道，对于国内来讲，28纳米等成熟制程的芯片，已经足以满足国内90%以上的需求。

在EDA方面，此前EDA软件一直由国外巨头把控，而想要完成晶体管电路的布局，只能依靠电子设计自动化——即EDA软件，美国的三大EDA巨头几乎占据了全球80%以上的市场份额。但最新消息是，深交所已经正式受理中国EDA先行者华大九天的创业板IPO的申请，根据此次招股书显示，此次项目的募集资金为25.5亿元，而这些钱将会用在EDA的升级开发领域。

此次举措足以证明，我们想要向高端EDA进军的决心，根据相关数据显示，中国在2000年就已经拥有660亿的市场规模，国内华大九天虽然是领军企业，但是在20年时间内的收入仅仅只有4亿，在未来，EDA国产化是必然趋势，虽然在国内是属于遥遥领先的，但是与美国的巨头比起来还有很大的发展空间。

目前国产DUV光刻机已经即将实现14纳米以及7纳米的量产工艺，而美国的三大巨头EDA也已经在实践5纳米，另外华大九天之间还在突破14纳米。相信在不就的将来，国产制造也会成为一颗新星，在半导体领域实现更大的突破。