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英诺赛科成功导入ASML光刻机

来源: | 发布日期:2021-12-08 浏览量:

12月8日,英诺赛科(珠海)科技有限公司为ASML光刻机成功导入8英寸硅基氮化镓量产线举办了庆典。据了解,英诺赛科于2021年引入ASML光刻机,凭借着其卓越的成像性能和独特的TWINSCAN架构,进一步提升了硅基氮化镓功率器件制造的产能及产线良率。此次庆典上,ASML副总裁兼中国区总经理沈波代表ASML被英诺赛科授予“最佳战略合作伙伴”称号。

12.08

近年来,相较传统硅材料,氮化镓和碳化硅等第三代半导体,以其更小尺寸、更高转换频率、更高功率密度等特点,逐渐成为了全球半导体产业的新焦点。此新材料可满足节能、减排、智能制造等全球战略需求。氮化镓是“第三代半导体”关键材料之一,具有广阔的市场前景,可渗透到包括消费、工业和汽车类电子应用领域。作为全球领先的8英寸硅基氮化镓芯片制造商,英诺赛科一直致力于推动第三代半导体制造技术的创新和革命。

这是一次重大突破,ASML光刻机首次进入8英寸硅基氮化镓量产线。为了给英诺赛科提供更有力的支持,ASML始终根据其制造需求不断升级光刻设备ASML光刻机的顺利入驻将持续助力英诺赛科的大规模量产,为其长期发展保驾护航。

ASML深紫外光刻业务资深副总裁表示:“我们也欣喜地看到ASML TWINSCAN的卓越性能首次在8英寸硅基氮化镓芯片制造领域得到验证。我们完全有信心支持英诺赛科未来的持续增长。”


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