国产光刻机研发取得重大突破

据消息称，近期中科院传出喜讯，国产光刻机研发工作取得了关键性突破。据了解中科院下属的上海光学机械研究所近日成功攻克EUV光刻机上的OPC技术，此项技术的掌握，使得在硬件不动的的情况下优化光刻机，提升光刻机分辨率，使得制造更加的高效。

就整机而言，上海微电子完全具备了90纳米光刻机的整机制造能力，目前在28纳米光刻机上进行突破，预计会在年底开始下线生产。清华研究所传出消息，已经与德国联邦技术学院达成了合作，进行更加先进的研发工作。

此前光刻机制造商阿斯麦和张忠谋都曾公开表示，中国无法造出一样的光刻机。一个国家也不可能建立完整的半导体产业链。但是对于我们在光刻机这一领域所获得的新进展，可以来讲，也是台积电以及阿斯麦万万没料到的。

国内在半导体领域进行自主研发，所获得的成果令人十分欣喜的，按照目前来看，也就意味着不远的将来，国内半导体行业无需再收到任何国家的阻碍和限制。